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グレートウォールフィルターを使用したシリコンろ過プロセス:純度と効率の確保

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背景

シリコーンは、無機化合物と有機化合物の両方の特性を兼ね備えたユニークな材料です。表面張力が低く、粘度温度係数も低く、圧縮性が高く、ガス透過性も高いだけでなく、極端な温度変化、酸化、風化、水、化学薬品に対する耐性にも優れています。さらに、無毒性で生理的に不活性であり、優れた誘電特性も備えています。

シリコーン製品は、シーリング、接着、潤滑、コーティング、界面活性剤、消泡、防水、断熱、充填剤として幅広く使用されています。シリコーンの製造は、複雑な多段階プロセスを経て行われます。

シリカと炭素は高温でシロキサンに変換される。

金属シロキサン中間体は塩素化され、クロロシランを生成する。

クロロシランの加水分解により、シロキサン単位と塩酸が生成され、これらは蒸留および精製される。

これらの中間体は、溶解性や性能特性が異なるシリコーンオイル、樹脂、エラストマー、その他のポリマーを形成する。

この工程全体を通して、製造業者は製品の品​​質を確保するために、不要な残留物、水分、ゲル状粒子を除去する必要があります。そのため、安定性、効率性、そしてメンテナンスの容易さを兼ね備えたろ過システムが不可欠です。


顧客の課題

シリコーンメーカーは、製造工程において固形物と微量の水分をより効率的に分離する方法を必要としていた。同社の製造工程では、炭酸ナトリウムを用いて塩化水素を中和するが、その過程で残留水分と固形物が発生する。これらの残留物を効率的に除去しないと、ゲル状になり、製品の粘度が上昇し、品質が低下する可能性がある。

従来、この精製には2つのステップ:

シリコーン中間体から固体を分離する。

添加剤を使用して水分を除去してください。

顧客はワンステップソリューション固形物、微量の水分、ゲルを除去することが可能であり、それによって工程が簡素化され、副産物の廃棄物が削減され、生産効率が向上する。


解決

グレートウォール・フィルトレーションはSCPシリーズの詳細フィルターモジュール固形物、残留水分、ゲル状粒子を一度に除去するように設計されています。

テクノロジーSCPモジュールは、落葉樹と針葉樹由来の微細なセルロース繊維と、高品質の珪藻土および陽イオン電荷担体を組み合わせたものです。

保持範囲: 公称ろ過定格0.1~40 µm.

最適化されたパフォーマンス: テストにより、SCPA090D16V16Sモジュール1.5 µm保持この用途に最も適している。

機構高い吸水性と理想的な細孔構造により、ゲルや変形可能な粒子を確実に保持します。

システム設計: ステンレススチール製の密閉型ハウジングシステムに設置され、フィルターエリアは0.36 m²~11.7 m²柔軟性と清掃の容易さを兼ね備えています。


 

結果

固形物、微量の水分、ゲルを効果的に一段階で除去することに成功した。

生産ワークフローが簡素化され、2つの別々のプロセスが不要になります。

副産物廃棄物の削減と生産効率の向上。

圧力低下がほとんどなく、安定した信頼性の高いろ過性能を実現しました。


 

見通し

独自の吸着特性と高効率の組み合わせにより、SCPシリーズの詳細フィルターモジュール発見すると予想されるシリコーン産業全体にわたる幅広い用途この一段階ろ過機能は、固形物、ゲル、微量の水分を迅速かつ確実に除去できるため、シリコーン製造における画期的なソリューションとなる。


よくある質問

Q1:シリコーン製造において、ろ過が重要な理由は何ですか?

ろ過処理は、製品の品質、安定性、粘度に悪影響を与える可能性のある不要な固形物、微量の水分、ゲル粒子を除去するために不可欠です。効果的なろ過が行われないと、シリコーンは性能基準を満たせない可能性があります。

Q2:シリコーンの精製において、メーカーはどのような課題に直面していますか?

従来の方法では、固形物を分離し、添加剤を用いて水分を除去するなど、複数の工程が必要となる。このプロセスは時間とコストがかかり、さらに廃棄物も発生する可能性がある。

Q3:SCPシリーズの詳細フィルターこれらの問題を解決するモジュールはありますか? 

SCPモジュールは一段階ろ過固形物、残留水分、ゲルを効果的に除去します。これにより、工程が簡素化され、廃棄物が削減され、生産効率全体が向上します。

Q4: ろ過メカニズムとは何ですかSCPモジュール? 

SCPモジュールは、微細なセルロース繊維、高品質の珪藻土、および陽イオン電荷担体からなる複合構造を採用しています。この組み合わせにより、強力な吸水性とゲルおよび変形可能な粒子の確実な保持が保証されます。

Q5:どのような顧客維持率評価が利用可能ですか? 

SCPモジュールは公称ろ過範囲は0.1µm~40µmです。シリコーン加工においては、保持力1.5µmのSCPA090D16V16Sモジュールがよく推奨されます。

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