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グレートウォールフィルターによるシリコンろ過プロセス:純度と効率の確保

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背景

シリコーンは、無機化合物と有機化合物の両方の特性を兼ね備えたユニークな材料です。表面張力、粘度温度係数、圧縮率、ガス透過性が高く、優れた耐熱性、酸化耐性、耐候性、耐水性、耐薬品性も備えています。また、無毒性、生理学的に不活性で、優れた誘電特性も備えています。

シリコーン製品は、シーリング、接着、潤滑、コーティング、界面活性剤、消泡剤、防水、断熱、充填剤として幅広く使用されています。シリコーンの製造は、複雑な多段階のプロセスを経て行われます。

シリカと炭素は高温でシロキサンに変換されます。

金属シロキサン中間体は塩素化されてクロロシランを生成します。

クロロシランの加水分解によりシロキサン単位と HCl が生成され、その後蒸留されて精製されます。

これらの中間体は、溶解度や性能特性が異なるシリコーンオイル、樹脂、エラストマー、その他のポリマーを形成します。

このプロセス全体を通して、製造業者は製品の品​​質を確保するために、不要な残留物、水分、ゲル粒子を除去する必要があります。そのため、安定性、効率性、メンテナンス性に優れたろ過システムが不可欠です。


顧客の課題

あるシリコーンメーカーは、製造工程において固形物と微量水分を分離するためのより効果的な方法を求めていました。彼らの製造工程では、炭酸ナトリウムを用いて塩化水素を中和しますが、塩化水素によって残留水分と固形物が発生します。これらの残留物を効率的に除去しないと、ゲル状になり、製品の粘度が上昇し、品質が低下する可能性があります。

伝統的に、この浄化には2つのステップ:

固体をシリコン中間体から分離します。

添加剤を使用して水分を除去します。

顧客はワンステップソリューション固形物、微量水分、ゲルを除去できるため、プロセスが簡素化され、副産物の廃棄物が削減され、生産効率が向上します。


解決

グレートウォールフィルトレーションは、SCPシリーズの深さフィルターモジュール固形物、残留水、ゲル粒子を 1 ステップで除去するように設計されています。

テクノロジーSCP モジュールは、微細セルロース繊維 (落葉樹および針葉樹由来) と高品質の珪藻土およびカチオン電荷キャリアを組み合わせています。

保持範囲: 公称濾過定格0.1~40µm.

最適化されたパフォーマンス: テストにより、SCPA090D16V16Sモジュール付き1.5 µmの保持このアプリケーションに最適なものとして。

機構: 強力な水吸着能力と理想的な細孔構造の組み合わせにより、ゲルや変形可能な粒子を確実に保持します。

システム設計: ステンレススチール製の密閉ハウジングシステムに設置され、フィルターエリアは0.36㎡~11.7㎡柔軟性があり、掃除が簡単です。


 

結果

固形物、微量水分、ゲルを一段階で効果的に除去しました。

生産ワークフローが簡素化され、2 つの個別のプロセスが不要になります。

副産物の廃棄物を削減し、生産効率を向上させました。

大きな圧力低下がなく、安定した信頼性の高いろ過性能を実現します。


 

見通し

吸着特性と高効率のユニークな組み合わせにより、SCPシリーズの深さフィルターモジュール見つかることが期待されるシリコーン業界全体にわたる幅広い用途この一段階ろ過機能は、固形物、ゲル、微量の水分を迅速かつ確実に除去し、シリコーン製造における画期的なソリューションとなります。


よくある質問

Q1: シリコーン生産においてろ過が重要なのはなぜですか?

ろ過により、製品の品質、安定性、粘度に悪影響を与える可能性のある不要な固形物、微量水分、ゲル粒子を確実に除去できます。効果的なろ過がなければ、シリコーンは性能基準を満たさない可能性があります。

Q2: シリコーンの精製においてメーカーはどのような課題に直面していますか?

従来の方法では、固形物を分離し、その後添加剤を用いて水分を除去するという複数の工程が必要になります。このプロセスは時間とコストがかかり、さらに廃棄物が発生する可能性もあります。

Q3:SCPシリーズの深さフィルターモジュールはこれらの問題を解決しますか? 

SCPモジュールはシングルステップろ過固形物、残留水、ゲルを効果的に除去します。これによりプロセスが簡素化され、廃棄物が削減され、全体的な生産効率が向上します。

Q4: 濾過の仕組みは何ですか?SCPモジュールですか? 

SCPモジュールは、微細セルロース繊維、高品質の珪藻土、カチオン性電荷キャリアの複合構造を採用しています。この組み合わせにより、強力な水分吸着とゲルおよび変形可能な粒子の確実な保持を実現します。

Q5: どのような保持評価が利用可能ですか? 

SCPモジュールは公称ろ過範囲0.1 µm~40 µmシリコン処理の場合、1.5µmの保持定格を備えたSCPA090D16V16Sモジュールが推奨されることが多いです。

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